13.ばいじん・一般粉じん特論　2021年05問

洗浄集じん装置に関する記述として，誤っているものはどれか。

⑴　ベンチュリスクラバーの 50 ％分離粒子径は，スプレー塔のそれより小さくなる。
⑵　ため水式は，保有水を循環使用できるため，水の補給量がわずかで済む。
⑶　充塡塔では，充塡層内のガスの流れが均一であるほど，集じん率は高くなる。
⑷　サイクロンスクラバーでは，基本流速が大きいほど，集じん率は高くなる。
⑸　回転式では，液ガス比が大きいほど，集じん率は高くなる。